IfP-Kolloquium von Herrn Dr. Roie Yerushalmi
Hiermit möchten wir recht herzlich zum IfP-Kolloquium:
Band Gap Engineering and Defect Design of Metal Oxides using Molecular Layer Deposition
Dr. Roie Yerushalmi
Institute of Chemistry and the Center for Nanoscience and Nanotechnology, The Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem 91904, Israel
einladen. Der Vortrag findet am 8. Mai 2017 auf dem Campus Freudenberg im Hörsaal FZH3 um 16:00 Uhr statt.
Hier finden Sie den entsprechenden Flyer
